매출 2,151억 원, 투자 3,826억 원, 고용 385명, 특허출원 271건 등 경제효과
[기계신문] 성윤모 산업통상자원부 장관은 28일(수) 정부의 소재·부품·장비 R&D 사업을 통해 그간 전량 對일본 수입에 의존해온 반도체 CVD 장비용 고온 히터를 국내 최초로 개발한 ㈜미코세라믹스를 방문, 국내 주요 소재·부품·장비 수요-공급기업 대표들과 간담회를 가졌다.
이날 간담회에 참석한 기업은 SK하이닉스, 삼성SDI, 현대모비스, 에스앤에스텍, 세코닉스, 미코세라믹스, 코미코, 율촌화학, 상아프론테크, 대한광통신, 픽셀플러스 등이다.
이번 간담회는 2019년 소재·부품·장비 추경 R&D 사업을 착수한지 1년 반 정도가 지난 현 시점에서 중간 성과를 점검하고, 향후 소재·부품·장비 정책방향에 대한 업계 의견을 청취하기 위해 마련되었다.
2019년 7월 일본 수출규제 발표 후, 정부는 우리 주력산업을 정조준한 전대미문의 공급망 충격에 즉각 대응하고자, 8월 5일 「소재·부품·장비 경쟁력 강화 대책」을 마련하였다.
주력산업과 차세대 신산업의 공급망에 결정적인 영향을 미치는 전략적 핵심품목의 공급 안정성 확보를 위해, 자체기술 확보가 시급히 필요한 분야에 추경 자금을 긴급 투입, 대책 발표 한 달여 만인 9월부터 기술개발 및 사업화 지원에 본격 돌입했다.
소재부품 기술개발, 제조장비 실증지원, 반도체·디스플레이 성능평가지원 등 산업통상자원부 추경사업 중 3개 주요 R&D 사업의 성과를 집계한 결과, 매출 2,151억 원, 투자 3,826억 원, 고용 385명, 특허출원 271건이 발생한 것으로 나타났다.
이번 성과는 통상 R&D에 3년, 그리고 매출발생까지는 그 이상의 시간(통상 R&D 완료 후 3년 이상)이 걸리던 것을 “18개월 미만”으로 대폭 단축한 것으로서, 2019년 추경 R&D 지원을 통해 단기간 내 대체불가능이라 여겨진 소재·부품·장비의 기술개발·사업화에 성공함에 따라 우리 스스로의 한계를 극복하고 자신감을 회복하는 계기가 되었다.
소재·부품·장비 수요-공급기업 간담회에서 성윤모 장관은 “일본 수출규제에 대응해 2019년 9월 소부장 R&D에 착수하여 우리 기업들이 18개월 만에 매출 2,151억 원, 투자 3,826억 원 등 전례 없이 괄목할 만한 성과를 달성했다”면서 “2019년 추경 R&D 사업이 아직 종료되지도 않은 시점에서 성과가 가시화되고 있어, 2019년 추경 R&D와 2020년 이후 개시한 R&D 사업들이 진전되면 성과는 더욱 확대될 것으로 기대된다“고 언급했다.
성 장관은 또한 “이러한 R&D 성과 외에도, M&A, 투자유치·유턴, 소재·부품·장비 특화단지 지정 등을 통해 첨단 소부장 생산기지로의 전환에 가속도가 붙고 있는 등 소부장 정책 성과가 가시화되고 있다”고 강조했다.
한편, 성윤모 장관은 간담회에서 R&D를 비롯한 소부장 정책 전반에 대한 업계의 애로사항을 청취한 바, 수요-공급 기업들은 ▶R&D 과제 종료후 개발된 제품에 대한 판매 연계 강화 ▶기술개발‧사업화에 성공한 기업들의 해외 진출을 위한 판로 개척 ▶소부장 전문인력 양성 ▶시설투자에 대한 세액공제 확대 등을 건의하였다.
이번 간담회를 계기로, SK하이닉스(수요기업)와 미코세라믹스(공급기업)는 국내 소재·부품·장비 산업 경쟁력 강화와 기술 자립화를 위해서는 수요기업과 공급기업의 긴밀한 협력이 필수적이라는 공통 인식하에, 반도체 CVD 장비용 고온 히터에 관한 업무협약 체결을 통해 기술개발·성능평가·구매에 있어 최선을 다해 협력할 것을 약속했다.
㈜미코세라믹스는 ㈜미코로부터 반도체 장비용 부품 사업에 전문화하기 위해 2020년 물적분할한 기업으로서, 반도체 장비용 세라믹 히터, 정전척(ESC), 소모성 세라믹 부품 등 생산에 특화된 기술을 보유하고 있는 기업이다.
최근 일본이 세계시장의 95% 이상을 차지하고 있는 품목인 ‘반도체 CVD 장비용 고온히터’를 개발하는 데 성공했으며, 420억 원을 투자하여 연간 3,000개를 생산할 수 있는 공장을 신설 중이다. 이로써 그간 수입에 의존하던 품목의 국내 공급기반이 확보될 것으로 기대되고, 나아가 해외 수출도 가능할 것으로 예상된다.
참고로, 반도체 CVD 장비용 고온 히터는 반도체 증착(蒸着) 공정장비에 소요되는 핵심부품으로 실리콘 웨이퍼를 균일한 고온 상태(550℃ 이상)로 유지시켜 실란계 증착물질 등이 균일하게 증착될 수 있도록 하는 역할을 한다.
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