▲ 정승일 산업통상자원부 차관은 15일(수) 반도체 공정에 필수적으로 사용되는 포토레지스트의 국내생산 현황점검을 위해 경기도 화성시에 위치한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업인 동진세미켐을 방문하여, 이준혁 대표로부터 회사현황을 청취했다.

[기계신문] 정승일 산업통상자원부 차관은 15일(수) 오후 경기도 화성시 소재의 반도체·디스플레이용 소재기업인 ㈜동진쎄미켐을 방문해, 기업 임직원들을 직접 격려하고 현장애로를 점검했다.

이번에 방문한 동진쎄미켐은 EUV포토레지스트의 바로 전 단계인 반도체용 ArF-immersion(불화아르곤 액침) 포토레지스트를 지난 2010년 국내 최초로 개발·생산한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업이다.

동진쎄미켐은 올해 1분기 중에 KrF(불화크립톤), Arf(불화아르곤) 등 포토레지스트 생산공장 증설을 착공할 예정이며, 증설공장이 계획대로 완공 후 내년 초 정상 가동되면 동진쎄미켐은 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 확대 생산하게 된다.

▲ 정승일 산업통상자원부 차관은 15일(수) 반도체 공정에 필수적으로 사용되는 포토레지스트의 국내생산 현황점검을 위해 경기도 화성시에 위치한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업인 동진세미켐을 방문하여, 이준혁 대표로부터 회사현황을 청취했다.

포토레지스트는 감광재로써 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용되는데, 반응하는 빛의 파장에 따라 주로 KrF(불화크립톤, 248nm), ArF(불화아르곤, 193nm), EUV(극자외선, 13.5nm)용 등으로 구분되며, 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.

포토레지스트는 그간 일본으로부터의 수입에 의존해 왔으나, 일본 수출규제 이후, 대일 수입의존도를 낮춰 공급안정성을 빠르게 확보해 나가고 있다.

우선 벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등 일본 외 국가로 수입국을 다변화하고 있으며, 듀폰으로부터 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설 등 구축을 위한 한국 투자를 확정 받아 국내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행할 계획이다. 또, 국내 기술개발, 양산평가 등을 통해 포토레지스트의 국내 기술력을 확보해 나갈 예정이다.

▲ 정승일 산업통상자원부 차관은 15일(수) 반도체 공정에 필수적으로 사용되는 포토레지스트의 국내생산 현황점검을 위해 경기도 화성시에 위치한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업인 동진세미켐을 방문하여, 이준혁 대표로부터 회사현황을 청취했다.

정승일 차관은 “지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해온 결과, 포토레지스트를 포함하여 3대 품목 등 핵심소재의 공급안정성이 확보되어가고 있다”면서 “올 1분기 내 동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다”고 언급했다.

동진쎄미켐 이준혁 대표은 “생산공장 증설이 신속하게 착수될 수 있었던 것은 정부의 대규모 R&D 투자, 공장증설용 토지에 대한 신속한 용도변경 등 범정부적 지원이 있었기 때문에 가능했다”며 감사의 뜻을 전했다.

정 차관은 첨단 포토레지스트 기술개발에 있어서도 지원을 아끼지 않을 계획이라고 강조하면서 “2020년을 미래 10년을 만들어가는 소재·부품·장비 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼고, 대외여건 변화와 관계없이 소재·부품·장비 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다”고 밝혔다.

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